超高场MRI:脑部成像结果探讨

• 来源期刊: 磁共振成像
• 学科: 医学
• 关键词: 磁共振成像 高场强 磁敏感加权成像 脑出血
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 海外来稿
• 页码范围: 169-176
• 分类号: R445.2|R742
• 字数: 409字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8034.2010.03.003

摘要

随着射频和线圈技术的提高,超高场磁共振近年来有了很大的发展.与常规的场强,超高场MR主要具有以下优势:(1)信噪比的显著增加保证了高分辨率和高质量的图像,从而大大提高了微小结构的检出;(2)由于磁敏感效应的增加,T2*或磁敏感技术有了更广泛的应用,尤其是对异常的铁沉积,微小出血点和小静脉血管的检测;(3)高场T1弛豫时间的增加可以提高ASL灌注成像技术的应用;(4)信号本身的增加也可提高fMRI和MRS的分辨率等.当然,目前超高场强磁共振技术也还有一些局限性:(1)SAR的明显增加限制了采集层数并影响采集时间;(2)高场下RF磁场(B1)的不均匀性造成图像信号的不均匀;(3)增加的磁敏感效应也在颅底增加了相应的伪影等.本文对高场7T在纽约大学医疗中心脑部MR的最初临床应用结果进行了分析.