壳聚糖在染整工业后整理中的应用

• 作者: 吴建昭
• 来源期刊: 广西纺织科技
• 学科: 工学
• 关键词: 壳聚糖 印染 后整理
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 36-37
• 分类号: TS195.2+9
• 字数: 2516字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0101.2010.02.016

摘要

介绍了壳聚糖的结构和理化性能,阐述了壳聚糖在防皱、抗茵、抗静电等功能性整理方面的应用.最后指出了壳聚糖在纺织印染行业具有广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴建昭	天津工业大学纺织学院	1	3	1.0	1.0