离子束溅射沉积Al2O3纳米薄膜AFM及XPS分析

• 作者: 何丽静 刘强安 王晓东 王铁宝
• 来源期刊: 河北工业大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米薄膜 Al2O3 离子束沉积 掠入射衍射 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 32-36
• 分类号: O484.1
• 字数: 2235字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2373.2011.02.009

摘要

在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1～100nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱(XPS)仪和X射线衍射仪分别对100 nm的Al2O3纳米薄膜表面结构和成分进行了表征,结果表明:薄膜厚度在1～50 nm范围时,颗粒形态随着薄膜厚度的变化逐渐变化,由二维生长的胞状渐变为多个颗粒聚成的球状.当薄膜厚度大于50nm时,小的球形颗粒聚成大球形颗粒,并且球形颗粒生长状态为三维生长.随着薄膜厚度的增加表面粗糙度先增加后减小,当薄膜厚为5 nm时出现最大值;在衬底温度低于100℃的条件下,沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓东	河北工业大学材料科学与工程学院	41	185	8.0	12.0
2	王铁宝	河北工业大学材料科学与工程学院	39	186	7.0	11.0
3	刘强安		2	1	1.0	1.0
4	何丽静		1	1	1.0	1.0