低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜

• 作者: 刘仲武 周克崧 张辉 焦东玲 程奕天 邱万奇 钟喜春
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: α-Al2O3 反应溅射 复合靶 低温沉积 纳米压痕
• 年，卷（期）: 2019,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 862-866
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3896字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20180473

摘要

低温沉积 α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键.本研究以Al、α-Al2O3和Al+15wt％ α-Al2O3为靶材,用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜.用掠入射X射线衍射(GIXRD)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDS)对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究,用纳米压痕技术测量薄膜硬度.结果表明,在550℃的基体温度下,反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相 α-Al2O3薄膜.靶中的 α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核,在550℃及以上的基体温度下可抑制 γ 相形核,促进 α-Al2O3晶核同质外延生长,并最终形成单相α-Al2O3薄膜.