不同气体环境下532nm激光诱导硅表面形貌的研究

• 作者: 李国强 李晓红 杨宏道 袁春华 邱荣
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 工学
• 关键词: 激光应用 表面微处理 激光辅助化学刻蚀 硅 表面形貌
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 激光技术
• 页码范围: 86-92
• 分类号: TN249
• 字数: 2922字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1531.2011.01.014

摘要

研究了在不同气体环境下,利用532 nm Nd:YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构,结果表明,在其他条件相同,背景气体不同的情况下,背景气体对硅表面形貌的形成起着重要的作用.具体分析了真空、N2和SF6 3种环境气氛下形成的微结构,结果显示,在SF6中形成的锥形微结构的数密度比在N2和真空中的大,并且锥形具有更大的纵横比;在N2、真空和SF6中形成的微结构尺寸依次减小.SF6气氛下,激光辅助化学刻蚀的效率比在真空和N2气氛中的高.另外,辐照区域边缘有波纹微结构形成,分析认为,该微结构的形成是由表面张力波的冷却导致的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宏道	西南科技大学理学院激光与光电子实验室极端条件物质特性实验室	6	82	4.0	6.0
2	李晓红	西南科技大学理学院激光与光电子实验室极端条件物质特性实验室	15	101	6.0	10.0
3	李国强	西南科技大学理学院激光与光电子实验室极端条件物质特性实验室	4	22	3.0	4.0
4	袁春华	西南科技大学理学院激光与光电子实验室极端条件物质特性实验室	7	82	4.0	7.0
5	邱荣	西南科技大学理学院激光与光电子实验室极端条件物质特性实验室	19	104	5.0	10.0