表面活性剂对电沉积TiO2/Ni复合镀层的影响

• 作者: 周仕勇 沈承金 王芹芹 胡亮亮
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电刷镀 表面活性剂 电沉积 涂层特性
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 83-88
• 分类号: TH174.44
• 字数: 382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2011.05.017

摘要

研究了表面活性剂对纳米TiO2在镀液中的分散行为和沉积行为的影响,结果表明十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)对纳米TiO2颗粒的分散效果显著,镀液40 min内不发生明显分层.相比其他表面活性剂,由于纳米颗粒在涂层中均匀分散,CTAB分散的镀层显微硬度最好,且热稳定性好,孔隙率显著降低.运用SEM、EDAX和XRD研究了镀层的表面形貌和成分.CTAB分散的纳米TiO2- Ni基镀层表面平整致密、晶粒均匀,镍基晶粒长大伴随着纳米TiO2被夹持嵌埋过程,TiO2多分布于镍基间隙.分析认为纳米粉末TiO2与Ni符合迁移、吸附、嵌埋的力学共沉积过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈承金	中国矿业大学材料科学与工程学院	51	272	9.0	12.0
2	胡亮亮	中国矿业大学材料科学与工程学院	4	10	2.0	3.0
3	王芹芹	中国矿业大学材料科学与工程学院	3	13	3.0	3.0
4	周仕勇	中国矿业大学材料科学与工程学院	4	16	3.0	4.0