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K-shell Ionization of Silicon Induced by Proton near Threshold Energy
K-shell Ionization of Silicon Induced by Proton near Threshold Energy
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | K-shell Ionization of Silicon Induced by Proton near Threshold Energy | ||
| 来源期刊 | 中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报：英文版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 电离截面 质子 K-壳层 电子回旋共振 阈能 X射线辐射 诱导速度 能量范围 | ||
| 年，卷（期） | 2011,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 45-45 | |
| 页数 | 1页 | 分类号 | O562.4 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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电离截面
质子
K-壳层
电子回旋共振
阈能
X射线辐射
诱导速度
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期刊影响力
中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报：英文版
主办单位：
Atomic
Energy
Physics
出版周期：
年刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
兰州市城关区南昌路509号
邮发代号：
创刊时间：
语种：
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4411
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