场发射FED器件MIM结构Ta-Ta2O5-Al薄膜的制备及性能

• 作者: 杨兰 郭太良
• 来源期刊: 集美大学学报：自然科学版
• 学科: 工学
• 关键词: 阳极氧化 Ta2O5薄膜 MIM结构 非晶态
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 数理科学与信息工程
• 页码范围: 476-480
• 分类号: TQ342.712
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7405.2011.06.015

摘要

利用直流磁控溅射Ta膜和阳极氧化法制备Ta2O5薄膜,能谱分析（EDS）和X射线衍射仪（XRD）研究表明,在H3PO4电解液中添加少量的乙二醇制备的Ta2O5薄膜,呈非晶态,没有β-Ta2O5晶相出现.利用电击穿场强测试系统研究Ta-Ta2O5-Al复合薄膜制备FED器件（MIM结构）的绝缘性,证明采用磁控溅射和阳极氧化法成功制备了漏电流密度低、耐击穿场强高的Ta2O5薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兰	集美大学理学院	9	21	3.0	4.0
2	郭太良	集美大学理学院	1	0	0.0	0.0