多晶硅还原炉低电压启动转高电压启动设备结构改造

• 作者: 李国安 黄琰
• 来源期刊: 江西化工
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅 还原炉 低压启动 高压启动 爬电距离
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 经验交流
• 页码范围: 183-184
• 分类号: TL503
• 字数: 1090字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-3103.2011.04.071

摘要

目前国内多晶硅生产中，还原炉多采用高电压击穿的方式启动，但国外多晶硅生产中多采用低电压击穿，一些进口还原炉采用了低电压启动的结构设计。现本文将以MSA还原炉为例，分析阐述满足低压启动还原炉改成高压启动条件，对炉体结构的改造方案。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄琰		2	6	2.0	2.0
2	李国安		2	6	2.0	2.0