RTV涂层染污后憎水性迁移影响因素的研究

• 作者: 律方成 徐志钮 李和明 李嫚 王亚男 董亮
• 来源期刊: 高压电器
• 学科: 工学
• 关键词: 室温硫化 染污 憎水性 迁移 影响因素
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与分析
• 页码范围: 7-12
• 分类号: TM215.2
• 字数: 4899字
• 语种: 中文

摘要

研究室温硫化(room temperature vulcanization,RTV)硅橡胶涂层染污后憎水性迁移及其影响因素对RTV的应用具有指导意义.笔者以盐和灰的混合物模拟现场污秽,通过静态/动态接触角法表征憎水性,研究了迁移时间、温度、湿度、盐类型、灰类型、盐密、灰密对RTV涂层憎水性迁移速度的影响.结果表明:随着迁移时间的增加憎水性逐渐变好,迁移完全样本的接触角大于洁净样本;随温度增加迁移速度变快,且温度越高速度增加越快;随相对湿度增加迁移速度减慢,迁移所需时间非线性增大;ZnSO4迁移速度最快,NaNO3、NaCl、CaSO4相近;灰为硅藻土时污层的迁移速度快于高岭土的;随盐密/灰密(污秽度)的增加迁移速度有下降的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	律方成	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	266	4998	37.0	55.0
2	李和明	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	231	6023	39.0	65.0
3	徐志钮	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	94	1002	18.0	27.0
4	李嫚	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	5	83	5.0	5.0
5	董亮	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	1	20	1.0	1.0
6	王亚男	华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室	1	20	1.0	1.0