聚甲氧基有机硅/莫来石杂化材料的高温处理与热膨胀性能研究

• 作者: 史翎 张军营 朱宝菊 韩雁明
• 来源期刊: 北京化工大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 有机硅 莫来石 耐高温 低膨胀
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 44-48
• 分类号: TQ433.4
• 字数: 2548字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4628.2011.01.010

摘要

制备了耐高温低膨胀聚甲氧基有机硅(PMOS)/莫来石杂化材料.FT-IR与XRD测试表明材料在热处理过程中PMOS基体逐渐降解,而莫来石晶体则随温度的升高而稍有生长;TG测试表明材料在800℃高温处理后仍有93.4%的质量残留;SEM显示莫来石均匀分散在PMOS基体中;材料的冲击强度随热处理温度的升高而先减小后增大,800℃热处理后材料的冲击强度为924 J/m2;材料的膨胀系数很低,且随莫来石含量的增加而减小;聚甲氧基有机硅/莫来石杂化材料具有良好的耐高温性能与低热膨胀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张军营	北京化工大学碳纤维及功能高分子教育部重点实验室	95	640	14.0	21.0
2	史翎	北京化工大学碳纤维及功能高分子教育部重点实验室	41	417	10.0	20.0
3	韩雁明	中国林业科学院木材工业研究所木材化学与改性研究室	12	68	5.0	8.0
4	朱宝菊	北京化工大学碳纤维及功能高分子教育部重点实验室	3	15	2.0	3.0