基于D3He反应产生的单能质子对ICF内爆过程的照相模拟研究

• 作者: 丁永坤 滕建 谷渝秋 赵宗清
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 惯性约束聚变 单能质子 内爆 照相
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 137-140
• 分类号: O571.33
• 字数: 1316字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112301.0137

摘要

为实现单能质子对惯性约束聚变(ICF)内爆过程的诊断,使用FLUKA蒙特卡罗程序模拟分析了影响质子对内爆过程诊断的因素.通过设置不同初始质子数目,来分析质子产额对小球图像质量的影响,结果发现,要得到清晰图像,需要109的质子数.参照实验中常用的靶参数,模拟了直接驱动和间接驱动条件下的照相情况,分析了间接驱动情况下.金属腔对质子束的散射会造成内爆小球图像模糊,说明质子照相不适合间接驱动内爆.给出了一种时间分辨的质子照相方法,通过调整质子产生和内爆产生的时间差,实现了对内爆过程前后不同时刻的照相等.模拟表明,D3He反应产生的14.7 MeV的准单能质子具有的脉宽短、尺寸小的优点,可用于ICF内爆过程的动态照相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宗清	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	23	70	5.0	7.0
2	谷渝秋	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	52	137	6.0	9.0
3	丁永坤	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	49	181	7.0	10.0
4	滕建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	5	6	1.0	2.0