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摘要:
采用红外石英作为基底材料,利用siO2/ZrO膜系制备2100nm波段钬激光器0°高反膜.提出一套完整的优化工艺,解决了薄膜的材料(膜料和基底)本身的水吸收,克服了薄膜表面光洁底差、散射吸收损耗大、容易破裂等问题,镀制出的薄膜在激光使用波长透射率小于0.1%,粗糙度小于1 nm,并且具有长期稳定性好,可靠性高等特点.
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文献信息
篇名 钬激光器用高反膜的制备及其工艺研究
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 薄膜 钬激光器 高反膜 优化
年,卷(期) 2011,(11) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 220-223
页数 4页 分类号 O438.1|O484.4+1
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL201138.1107003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 齐红基 中国科学院上海光学精密机械研究所 40 299 11.0 16.0
2 黄建兵 中国科学院上海光学精密机械研究所 16 131 6.0 11.0
3 宋永香 中国科学院上海光学精密机械研究所 5 30 2.0 5.0
4 于振坤 中国科学院上海光学精密机械研究所 3 0 0.0 0.0
传播情况
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