深紫外氧化物薄膜的光学特性

• 作者: 匡尚奇 常艳贺 李春 邓文渊 金春水 靳京城
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 深紫外 离子束溅射 氧化物 损耗
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 158-162
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201138.1207004

摘要

降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190～800 nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线.在此基础上,以这两种氧化物材料作为高低折射率材料进行组合,设计并制备了λ/4规整膜系的193 nm多层高反射膜.实验结果表明,退火前薄膜的光学损耗相对较大,其中散射损耗较小,吸收损耗是光学损耗的主要部分.退火后光学损耗明显减小,散射损耗随着表面粗糙度增加而略微增加,表明光学损耗的减小是由吸收损耗下降所引起的.通过工艺优化,改善了氧化物薄膜在深紫外波段的损耗状况,使其在深紫外波段具有较好的光学特性,退火后高反射膜的反射率在193 nm处达96％以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	靳京城	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	2	1.0	1.0
4	邓文渊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	187	7.0	13.0
5	匡尚奇	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	6	10	2.0	3.0
6	常艳贺	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	17	2.0	4.0