在19.5nm处高反在30.4nm处抑制的双功能薄膜

• 作者: 周斯卡 朱京涛 李浩川 王占山 王晓强 蒋励 谭默言 黄秋实
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 双功能 多层膜 极紫外 直流磁控溅射 同步辐射
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1299-1302
• 分类号: O434.1
• 字数: 2978字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112305.1299

摘要

研究了极紫外波段的双功能光学元件.采用周期膜叠加的思想,运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反,在30.4 nm处抑制的双功能多层膜.采用磁控溅射技术制备了多层膜,利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构,在国家同步辐射实验室测试了双功能多层膜的反射特性.结果表明:制备出的双功能膜性能与设计相符,在入射角13°,19.5 nm处的反射率达到33.3%,接近传统的19.5 nm周期高反膜的反射率,并且在30.4 nm附近将反射率由1.1%降到9.6×10-4.