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摘要:
在SIMOX工艺制作过程中,氧离子注入的均匀性对SOI材料表面硅厚度的均匀性和SiO2埋层厚度的均匀性起着直接的决定性的作用.文章介绍了一种氧离子注入均匀性控制系统的工作原理和设计方案,该方案应用于我所研制的强流氧离子注入机,取得了理想的效果.
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文献信息
篇名 一种氧离子注入的均匀性控制系统设计
来源期刊 自动化与仪器仪表 学科 工学
关键词 离子注入 均匀性控制 SOI SIMOX
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 控制系统设计
研究方向 页码范围 74-76
页数 分类号 TP13
字数 2333字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-9227.2012.04.032
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾京英 中国电子科技集团公司第四十八研究所 10 25 3.0 4.0
2 刘咸成 中国电子科技集团公司第四十八研究所 4 4 1.0 2.0
3 郭忠君 中国电子科技集团公司第四十八研究所 3 1 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (1)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2001(1)
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2012(0)
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  • 引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
离子注入
均匀性控制
SOI
SIMOX
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
自动化与仪器仪表
月刊
1001-9227
50-1066/TP
大16开
重庆市渝北区人和杨柳路2号B区
78-8
1981
chi
出版文献量(篇)
9657
总下载数(次)
37
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