杂光对三线阵相机光学系统成像的影响

• 作者: 吴国栋 王红 田铁印
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 三线阵 测绘相机 模拟成像 杂光分析
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 成像技术与图像处理
• 页码范围: 847-851
• 页数: 5页
• 分类号: TN919.8
• 字数: 2325字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20122706.0847

摘要

针对高成像质量三线阵测绘相机杂光导致相机成像质量下降的问题,文章根据光学系统的设计结果,对相机的杂光系数进行分析与计算,提出合理的杂光抑制措施；利用ZEMAX软件和LightTools软件,分析了杂光对三线阵立体测绘相机成像的影响,通过模拟计算得到杂光系数小于5％的理论结果；实验检测了相机实际杂光系数,得到最大杂光系数小于6％的实测结果,模拟了杂光影响下的光学系统图像,证明了杂光抑制措施的有效性和杂光影响下成像分析的合理性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王红	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室	125	1755	25.0	35.0
2	吴国栋	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室	23	268	9.0	16.0
3	田铁印	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室	15	192	8.0	13.0