原子层沉积技术的研究进展

• 作者: 何伟 方靓 杨健苍 杨成韬
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 前驱体 原理与应用
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TB43

摘要

介绍了原子层沉积技术的基本原理，与其他的薄膜制备方法进行了优缺点比较；同时论述了它在前驱体的选择以及实验装置方面的研究进展；指出前驱体的制备和选择、低沉积速率的改进是当前原子层沉积技术研究的重点；最后展望了原子层沉积技术的发展前景。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨成韬	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	67	255	8.0	12.0
2	何伟	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	23	153	5.0	12.0
3	杨健苍	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	3	1.0	1.0
4	方靓	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	0	0.0	0.0