磁控溅射Al-Zr薄膜在微拉深成形中的拉深性能

• 作者: Bemd K(O)HLER Frank VOLLERTSEN Gerrit BEHRENS Heinz-Rolf STOCK Julien KOVAC
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: Al-Zr薄膜 微拉深成形 成形极限 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（z2）
• 页码范围: 268-274
• 页数: 7页
• 字数: 635字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(12)61718-X

摘要

拉深成形可以用来制备形状复杂的零部件,甚至可达微加工水平.采用磁控溅射方法,在基底温度分别为310K和433 K下,制备了厚度约为15μm的两种不同的Al-Zr薄膜.将这两种薄膜做为坯料,采用冲头直径为0.75 mm的微拉深设备研究其拉深性能.虽然这两种材料在拉伸试验中显示出较小的最大应变,但还是成功地实现了微拉深成形.在基底温度为310K和433 K制备的两种材料的极限拉深比分别为1.8和1.7.这些结果比先前采用Al-Sc合金的结果要好,与采用传统轧制方法所得纯铝薄膜的拉深结果相似.结果表明,采用磁控溅射方法制备的薄膜可以用来进行微拉深成形.