亚表面杂质对熔石英激光损伤的影响

• 作者: 周信达 李春宏 祖小涛 蒋晓东 郑万国 郑直 黄进
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 熔石英 HF酸刻蚀 激光损伤 X射线荧光成像方法
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 物理电子学
• 页码范围: 238-241,304
• 分类号: O437
• 字数: 3199字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2012.02.013

摘要

采用HF酸对熔石英材料刻蚀不同的时间,利用同步辐射X射线荧光成像方法(SXRF)研究熔石英材料亚表面区域的杂质种类和相对含量,利用AFM和白光干涉仪研究刻蚀区域表面形貌和表面粗糙度,并采用R:1方式测试激光损伤阈值.实验结果表明,熔石英亚表面的杂质主要包括Fe、Cu、Ce,其相对含量随刻蚀时间的增加而降低.在刻蚀时间小于30 min时,损伤阈值明显提升；继续增加刻蚀时间,阈值降低.当刻蚀时间较短时,Cu、Ce等杂质含量对损伤阈值影响较大.刻蚀时间过长时,元件表面粗糙度成为影响损伤阈值的主要因素.