熔石英元件抛光表面的亚表面损伤研究

• 作者: 何祥 谢磊 赵恒 马平
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 熔石英 化学机械抛光 亚表面损伤 微分干涉差显微成像 沉积层
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 101007-1-101007-5
• 页数: 1页
• 分类号: TN244
• 字数: 2212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201628.151108

摘要

通过结合 HF 酸洗和微分干涉差显微成像对两组抛光元件的亚表面损伤进行直接观测和分析。结果显示微分干涉差显微成像相比于传统的明场成像具有更好的分辨率，可以更有效检测 HF 酸洗后暴露的各种浅塑性亚表面损伤。对两组抛光元件的亚表面损伤的对比分析发现熔石英元件在抛光中会产生大量的亚表面损伤，这些亚表面损伤绝大多数是浅塑性的划痕和坑，仅有少量的脆性断裂损伤，较大的抛光颗粒会产生更多更严重的亚表面损伤，并且这些亚表面损伤被表面沉积层所掩盖，表面粗糙度不能反映亚表面损伤的严重程度。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马平		54	355	11.0	15.0
2	谢磊		4	17	2.0	4.0
3	赵恒		3	3	1.0	1.0
4	何祥		1	3	1.0	1.0