碳化硅光学表面抛光机理研究

• 作者: 范镝
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学制造 抛光机理 碳化硅 压痕断裂模型
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 127-130
• 页数: 4页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/LOP49.022202

摘要

碳化硅光学反射镜已经在国民生活各个领域得到广泛应用,但是其抛光机理尚不明确.对碳化硅光学表面抛光机理进行了研究.介绍了陶瓷材料的磨削机理——压痕断裂模型.应用压痕断裂模型分析了理想状态下的碳化硅抛光过程,并研究了实际抛光过程中碳化硅光学表面的抛光机理.