BP神经网络在微弧氧化膜层性能预测和能量参数优化中的应用

• 作者: 刘洪福 张宇 牛宗伟 董海青 赵东山 赵霞
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 正交实验 BP神经网络 膜层性能
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 73-76,83
• 分类号: TG174.451|TP18
• 字数: 3047字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2012.03.022

摘要

评价微弧氧化膜层性能的参数主要有膜层厚度、表面粗糙度和硬度,影响氧化膜层性能的主要因素有电流密度、脉冲频率和占空比.利用正交实验数据建立了BP神经网络,对微弧氧化膜层性能进行了预测,对能量参数进行了优化.结果表明:所拟建的BP网络稳定,网络预测当电流密度为10 A/dm2、频率为500 Hz、占空比为15％时,膜层的厚度、硬度最大,表面粗糙度最小,且其值与实验结果吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵霞	山东理工大学机械工程学院	15	91	4.0	9.0
2	张宇	山东理工大学机械工程学院	58	224	7.0	12.0
3	牛宗伟	山东理工大学机械工程学院	52	243	7.0	11.0
4	刘洪福	山东理工大学机械工程学院	7	41	4.0	6.0
5	赵东山	山东理工大学机械工程学院	8	41	4.0	6.0
6	董海青	山东理工大学机械工程学院	5	30	4.0	5.0