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摘要:
●深紫外激光、明场和暗场技术为硅片提供近2倍的光强,实现一流的检测灵敏度 ●专有图像处理运算可降噪50%,能检测到密集结构上的缺陷
内容分析
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文献信息
篇名 应用材料公司独一无二的UVision5系统为亚20nm世代提供世界一流的图形检测能力
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 检测能力 应用材料公司 图形 世界 世代 系统 深紫外激光 检测灵敏度
年,卷(期) 2012,(7) 所属期刊栏目 企业之窗
研究方向 页码范围 61-61
页数 1页 分类号 TN305
字数 850字 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
检测能力
应用材料公司
图形
世界
世代
系统
深紫外激光
检测灵敏度
研究起点
研究来源
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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