Mentor Graphics支持三星14nmIC制造工艺平台问世

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 制造工艺 Graphics 平台 三星 综合设计 明导公司 设计周期 可互操作
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 行业快讯
• 页码范围: 53-53
• 页数: 1页
• 分类号: TN929.53
• 字数: 1061字
• 语种: 中文

摘要

明导公司（MentorGraphicsCorp）日前宣布，用以支持三星14nlnIC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现（posttapeout）平台问世，这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程，使早期加工成为可能。完全可互操作的Mentor流程可帮助客户实现快速设计周期和晶圆生产的一次性成功。