孤立接触孔掩模显影工艺优化

• 作者: 周家万 尤春 张海平 陈卓
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 显影之后量测值 线条容差值 线条偏差
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 24-26,58
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1037字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.05.007

摘要

掩模（Mask）生产过程中,孤立接触孔经过显影之后的量测值（ADI）会比设计值偏大,往往会超出线条容差值（CD Tolerance）的范围,影响掩模生产质量;主要总结了工艺生产线影响显影结果的因素,然后通过几组对比试验讨论各个参数对显影结果的影响;最后通过实验验证了通过优化各个参数值,使孤立接触孔显影之后的量测值（ADI）能够满足实际生产质量要求,可以将线条偏差值控制在CD Tolerance范围以内。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尤春		7	14	2.0	3.0
2	陈卓		4	3	1.0	1.0
3	周家万		3	2	1.0	1.0
4	张海平		2	2	1.0	1.0