DMH镀金体系在ICF空腔靶中的应用

• 作者: 安茂忠 张云望 张林 杨潇薇
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 惯性约束聚变 空腔靶 无氰电镀金 5,5′-二甲基乙内酰脲
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1111-1116
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 4498字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122405.1111

摘要

将5,5′-二甲基乙内酰脲(DMH)新型无氰电镀体系应用于惯性约束聚变金空腔靶制备中.利用扫描电镜和库仑计法研究了以DMH为配位剂的镀液组成和工艺条件对电镀金层质量等的影响.结果表明:该镀液体系具有良好的稳定性,控制镀液中金盐质量浓度为8g/L,DMH质量浓度为80g/L时,在阴极电流密度1.5A/dm2、pH值9～10、温度45℃的条件下,可制得结晶致密、厚度均一的金镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张林	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	233	1406	18.0	25.0
2	安茂忠	哈尔滨工业大学化工学院	148	2092	24.0	37.0
3	杨潇薇	哈尔滨工业大学化工学院	13	90	6.0	8.0
4	张云望	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	9	24	3.0	4.0