叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析

• 作者: 于军胜 朱江平 胡松
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 测量 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位分析
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 仪器,测量与计量
• 页码范围: 108-115
• 页数: 8页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201232.0912002

摘要

光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系.在实际的应用中,叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关,而且还与CCD的位置有关.为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用,从矩形光栅到叠栅条纹,分析了一般光栅的相位分布规律.根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响；建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型.研究表明,没有角位移的情况下,当位移值小于0.4 pixel时,理论上最大对准误差低于0.002 pixel.