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摘要:
盛美半导体设备(上海)有限公司近日宣布第一台Ultra C 12英寸单片兆声波清洗设备已经销售给韩国存储器制造巨头。采用盛美的空间交变相移兆声波技术(SAPS),Ultra C无需用高浓度的化学药液,而是采用极低浓度的功能水即可实现优越的颗粒去除率(PRE),并且使材料的流失降到最低。
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关键词热度
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文献信息
篇名 国产半导体制造设备获海外订单
来源期刊 中国集成电路 学科 工学
关键词 半导体制造设备 订单 海外 国产 声波技术 半导体设备 清洗设备 低浓度
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目 业界要闻
研究方向 页码范围 2-2
页数 分类号 TN305
字数 1180字 语种 中文
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研究起点
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期刊影响力
中国集成电路
月刊
1681-5289
11-5209/TN
大16开
北京朝阳区将台西路18号5号楼816室
1994
chi
出版文献量(篇)
4772
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