锆-4合金的直流等离子电解氧化及膜层的性能

• 作者: 伍帆 程英亮
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 锆合金 等离子电解氧化 耐蚀性 显微硬度
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 页码范围: 1638-1646
• 分类号: TG146
• 字数: 1489字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(11)61367-8

摘要

在硅酸盐、磷酸盐、焦磷酸盐或其混合电解液中对锆-4合金进行等离子电解氧化.通过实验确定合适的工艺参数,并运用电化学技术、显微硬度、SEM、XRD等技术对膜层性能进行表征.结果表明:在纯的硅酸盐电解液中得到的膜层很不均匀,且在添加磷酸盐后,膜层均匀性仍然很差.在焦磷酸盐体系中得到的膜层比较均匀,但硬度低.在焦磷酸盐体系中添加硅酸盐后,膜层的均匀性和硬度都得到改善.XRD结果表明,膜层的主要成分为单斜氧化锆和四方氧化锆.添加硅酸盐后,有利于四方氧化锆的形成.极化曲线结果表明,在焦磷酸盐以及焦磷酸盐与硅酸盐混合体系中得到的膜层具有较强的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程英亮	湖南大学材料科学与工程学院	18	173	8.0	12.0
2	伍帆	湖南大学材料科学与工程学院	4	20	3.0	4.0