偏置电压对Cr/CrAlN多层涂层的摩擦学性能及残余应力的影响

• 作者: 乌苏拉·塞瓦杜拉 托比亚斯·斯布德 沃尔夫冈·铁尔曼 法比安·霍夫曼 莱纳·齐勒克
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 多层涂层 偏置电压 残余应力 摩擦学性能 热锻压模具
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 境外论文
• 页码范围: 1-9
• 分类号: TG115.58
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2013.03.001

摘要

为了解工艺对多层涂层性能的影响,针对偏置电压对涂层中残余应力以及其相应摩擦性能的影响进行了研究,并通过更改工艺参数来制备优良的涂层系统并调整其残余应力.通过磁控溅射装置利用-75～-150 V的偏置电压把Cr/CrAlN多层涂层系统沉积到热作模具钢H11上.除对涂层进行了金像分析外,还使用X射线衍射来分析了其残余应力.通过扫描电子显微镜测定涂层的结构和形态,采用纳米压痕实验和球盘摩擦实验来验证来工艺参数对力学和摩擦性能的影响.结果表明,残余应力随着偏置电压的增加而增长,并导致了更致密和更无序的微观结构.由于涂层的致密,涂层的硬度和涂层的杨氏模量也急剧增加.摩擦学性能也随着偏置电压的增高进一步受到涂层表面形态以及高残余应力和高硬度组合的综合影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沃尔夫冈·铁尔曼	多特蒙德工业大学材料工程学院	1	3	1.0	1.0
2	托比亚斯·斯布德	多特蒙德工业大学材料工程学院	1	3	1.0	1.0
3	法比安·霍夫曼	多特蒙德工业大学材料工程学院	1	3	1.0	1.0
4	乌苏拉·塞瓦杜拉	多特蒙德工业大学材料工程学院	1	3	1.0	1.0
5	莱纳·齐勒克	多特蒙德工业大学材料工程学院	1	3	1.0	1.0