非球面碳化硅表面硅改性层的数控化学机械抛光

• 作者: 张峰
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学加工 表面改性碳化硅 化学机械抛光 数控抛光 材料去除函数
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 3015-3020
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2|TN304.24
• 字数: 3742字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20132112.3015

摘要

提出了一种数控化学机械抛光技术以实现非球面碳化硅表面硅改性层的高效精密抛光并获得高质量非球面碳化硅反射镜.研究了菲球面碳化硅表面硅改性层的化学机械抛光机理,阐述了表面改性非球面碳化硅反射镜的数控化学机械抛光原理.通过与普通数控抛光对比,说明了数控化学机械抛光的优势.通过数控化学机械抛光实验,研究了这种抛光方法的材料去除函数.最后,以材料去除函数的研究结果为依据,采用数控化学机械抛光技术对口径为120 mm表面改性非球面碳化硅反射镜进行抛光.经过几个抛光周期的迭代,表面改性非球面碳化硅反射镜的面形精度由0.253λ(RMS值)(λ=0.632 8 μm)收敛到0.014λ(RMS值),反射镜的表面粗糙度达到0.538 7 nm(RMS值),满足光学设计技术指标的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室	149	3496	30.0	56.0