纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究

• 作者: 储向峰 叶明富 孙文起 张王兵 熊伟 董永平
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: SiC 蓝宝石晶片 化学机械抛光 分散剂
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 17-21
• 分类号: TG74
• 语种: 中文

摘要

制备了一种纳米SiC抛光液,用透射电镜观察其粒子形貌,通过纳米粒度仪研究了分散剂种类对悬浮液中SiC的粒径分布和Zeta电位的影响,并用制备的抛光液对蓝宝石晶片进行化学机械抛光.使用原子力显微镜观察蓝宝石晶片抛光后的表面形貌.结果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在相同试验条件下,采用质量分数1％的SiC抛光材料的去除速率最大,为24.0 nm/min,获得蓝宝石晶片表面质量较好,表面粗糙度Ra为2.2 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学化工学院	59	209	6.0	11.0
2	董永平	安徽工业大学化学化工学院	45	183	7.0	11.0
3	张王兵	安徽工业大学化学化工学院	23	112	6.0	9.0
4	孙文起	安徽工业大学化学化工学院	15	45	3.0	6.0
5	叶明富	安徽工业大学化学化工学院	49	104	5.0	8.0
6	熊伟	安徽工业大学化学化工学院	5	67	4.0	5.0