Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗谱研究

• 作者: 刘光明 杨晓东 林继月 田继红
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溶胶-凝胶法 Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层 电化学阻抗谱
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 527-531
• 页数: 5页
• 分类号: TQ631.2
• 语种: 中文

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS)、甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二苯基二甲氧基硅烷(DDS)和仲丁醇铝(ASB)为主要原料,采用溶胶-凝胶法得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化溶胶,经100℃下固化12h后得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层.红外光谱研究表明,杂化涂层中形成了Al—o—Si键.采用电化学阻抗(EIS)研究杂化涂层在3.5％NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,根据阻抗谱特征建立了等效电路图,结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5％NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性.结果表明,其在3.5％NaCl溶液中具有良好的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘光明		74	354	9.0	16.0
2	田继红		7	30	4.0	5.0
3	杨晓东		5	21	3.0	4.0
4	林继月		3	4	1.0	2.0