表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

• 作者: 刘涌 孙徐兴 张淮凌 贾绍辉 韩高荣
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: Low-E 氮化硅 氧掺杂
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 799-802,818
• 分类号: TQ171.72+4|TQ171.73+8
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2013.06.006

摘要

低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比.目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高.通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3NxOy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性.表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
2	张淮凌		4	1	1.0	1.0
3	贾绍辉		6	3	1.0	1.0
4	刘涌	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	18	59	5.0	6.0
5	孙徐兴		1	1	1.0	1.0