表面光电压法研究氧化工艺铁离子沾污

• 作者: 向华兵 廖乃镘 李仁豪 李贝 林海青
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 电荷耦合器件 氧化工艺 Fe离子沾污 表面光电压
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 600-602,606
• 分类号: TN386.5
• 语种: 中文

摘要

表面光电压法(SPV)能精确测量硅片的Fe离子浓度,是一种快速、非破坏性的高灵敏度测试方法.采用表面光电压技术研究了氧化工艺中的Fe离子沾污.研究表明,氧气、氮气、三氯乙烯中含有的微量杂质是氧化工艺中Fe离子沾污的主要来源.通过对氧气、氮气进行进一步纯化处理、减少三氯乙烯杂质质量分数到1.0×10-8、更换传输气体的不锈钢管路等措施,将氧化工艺Fe离子沾污减少了一个数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李仁豪		24	60	5.0	6.0
2	李贝		5	7	2.0	2.0
3	廖乃镘		14	12	2.0	2.0
4	向华兵		6	4	1.0	2.0
5	林海青		3	4	1.0	2.0