C掺杂方式对TiAlSiN膜层组织及性能的影响

• 作者: 华云峰 李争显 杜继红 王宝云 王彦峰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: C掺杂 TiAlSiN硬质膜层 显微组织 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 32-34,38
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

采用电弧离子镀与磁控溅射联合沉积技术,以不同的C掺杂方式在高速钢基体表面制备了C/TiAlSiN多元复合硬质膜层,对膜层的成分、组织结构、显微硬度及摩擦磨损性能进行了表征,并与相同条件下制备的未掺杂TiAlSiN膜进行了对比.结果表明,不同的掺杂方式使得膜层的组织与性能不同,在TiAlSiN硬质膜层的制备过程中实施C掺杂,能够显著优化该膜层体系的组织结构及显微硬度,并大大改善其摩擦磨损性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李争显		169	1281	19.0	26.0
2	杜继红		102	955	17.0	24.0
3	王宝云		25	249	9.0	15.0
4	华云峰		16	56	5.0	7.0
5	王彦峰		19	62	5.0	7.0