脉冲离子束辐照对TiH2膜表面微观结构的影响

• 作者: 刘洋 向伟 王博宇
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiH2 脉冲离子束 表面形貌 慢正电子湮没技术
• 年，卷（期）: 2013,（10）
• 页码范围: 1269-1274
• 页数: 6页
• 分类号: TQ122.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2013.00122

摘要

在TEMP-6型强流脉冲离子束装置上,利用能量密度0.1-0.5 J/cm2,脉宽100 ns,能量100 keV的C+和H+混合离子束对TiH2膜进行逐次轰击以研究其在脉冲能量下的稳定性.采用扫描电镜和表面轮廓仪对TiH2膜辐照前后表面形貌进行研究；利用X射线衍射和慢正电子湮没技术对脉冲离子束辐照前后TiH2膜的物相和缺陷结构进行分析.结果表明:0.1-0.3 J/cm2的脉冲束流辐照热-力效应不足以导致膜明显熔化和开裂；0.5 J/cm2的脉冲束流辐照致使膜明显熔化并伴随产生大量的网状裂纹.0.1-0.3 J/cm2的脉冲辐照条件下TiH2的物相结构未发生明显变化,而0.5 J/cm2条件下δ-TiH2开始发生向体心四方(bct)结构的非平衡相变,并且随着辐照次数的继续增加膜内开始析出纯Ti的物相.脉冲束流辐照下的热-力学效应导致膜内缺陷的分布发生显著改变,导致膜的慢正电子Doppler展宽谱的S参数在0.5 J/cm2 5次轰击时达最小,而在0.3 J/cm2 1次轰击时最大.