调质40Cr磁控溅射制备CrN涂层工艺优化设计

• 作者: 刘威 孙迎军 李晖 王松 许洪斌 陈勇
• 来源期刊: 重庆理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 CrN涂层 工艺优化
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 机械·材料
• 页码范围: 38-43
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.453
• 字数: 3911字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8425(z).2013.12.008

摘要

为找到合适的工艺方案,使之能通过磁控溅射在调质40Cr表面制备得到性能良好的CrN涂层,采用正交试验的方法进行试验设计及数据分析.选取氮气流量、工作真空度、靶功率、沉积时间为主要因素,将涂层表面光洁度、涂层厚度、涂层硬度、涂层与基体的结合力作为衡量标准.结果表明最佳工艺方案为:N2流量为40 sccm,工作真空度为1.2 Pa,靶功率为150 W,沉积时间为120 min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晖	重庆理工大学材料科学与工程学院	21	52	5.0	6.0
2	许洪斌	重庆理工大学材料科学与工程学院	48	236	9.0	12.0
3	陈勇	重庆理工大学材料科学与工程学院	9	20	3.0	4.0
4	王松	重庆理工大学材料科学与工程学院	4	18	3.0	4.0
5	孙迎军	重庆理工大学材料科学与工程学院	4	8	2.0	2.0
6	刘威	重庆理工大学材料科学与工程学院	7	18	3.0	4.0