光学浮区法制备BiFe1-xCoxO3及其性质研究

• 作者: 王越 邸大伟 韩文辉 马云峰
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Bi(Fe,Co) O3 光学浮区法 磁化强度
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 页码范围: 2265-2269
• 页数: 5页
• 分类号: O782+.6
• 字数: 3311字
• 语种: 中文

摘要

采用光学浮区法生长了BiFe1-xCoxO3(x=0、0.01、0.03、0.05、0.07、0.09、0.11)晶体.研究了生长温度、旋转速度、生长速度、有无气体冷却等工艺条件对熔区稳定和样品品质的影响.通过生长参数的优化,获得了尺寸为φ(8～12) mm×(60～120)mm的晶体.测试的磁滞回线表明,随着Co掺杂比例的提高,室温下反铁磁性能逐渐增强,当x=0.11时,饱和磁化强度达到了5.5 emu/g;介电温谱显示,5％ Co掺杂样品的尼尔温度达到320℃的最低值,介电常数因Co替代Fe的比例增加而发生变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王越	北京工业大学应用数理学院	31	88	5.0	7.0
2	邸大伟	北京工业大学应用数理学院	3	4	1.0	2.0
3	马云峰	北京工业大学应用数理学院	4	4	1.0	2.0
4	韩文辉	北京工业大学应用数理学院	2	1	1.0	1.0