磁控溅射法制备WO3薄膜及其光学性质研究

• 作者: 康庆 杨晓红 王万录
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 WO3薄膜 退火 光学性质
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳米材料及特性
• 页码范围: 324-326
• 页数: 3页
• 分类号: TB381
• 字数: 1353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.113

摘要

采用DC磁控溅射的方法在玻璃基片上制备WO3薄膜,在不同温度条件下对薄膜进行退火处理;测量了不同氧分压下制备的薄膜在紫外到可见光范围内的透过率.实验表明,氧分压在75%左右条件下制备的薄膜具有较好的光学性能,退火温度在300℃左右可明显改变薄膜的光学性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王万录		109	849	16.0	22.0
2	杨晓红		4	36	3.0	4.0
6	康庆		5	4	1.0	1.0