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摘要:
对用于193 nm减反射膜的基底材料和薄膜材料的光学性能进行了解析,同时对沉积技术和主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,并在此基础上进行了193 nm大角度入射减反射膜的设计、制备及检测,实现了入射角为68°~72°范围内单面透射率大于96%,剩余反射率小于1%.同时计算了线宽压窄模块棱镜在镀膜前后的单程能量损耗,肯定了实现大角度减反射膜的必要性.
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文献信息
篇名 193 nm P偏振光大角度减反射膜的实现
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 薄膜 减反射膜 P偏振态 193 nm激光 大入射角
年,卷(期) 2013,(9) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 152-156
页数 5页 分类号 O484
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL201340.0907001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李春 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 30 317 10.0 17.0
2 金春水 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 56 202 9.0 11.0
3 靳京城 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 8 2 1.0 1.0
4 常艳贺 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 8 17 2.0 4.0
传播情况
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研究主题发展历程
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薄膜
减反射膜
P偏振态
193 nm激光
大入射角
研究起点
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期刊影响力
中国激光
月刊
0258-7025
31-1339/TN
大16开
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
4-201
1974
chi
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