材料折射率非均匀性对极小像差光学系统像质的影响

• 作者: 尚红波 杨添星 许伟才 赵菲菲 黄玮
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学设计 极小像差光学系统 非均匀性 Zernike多项式 光线追迹
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 181-186
• 页数: 6页
• 分类号: O439
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/LOP50.112202

摘要

为了分析光学材料折射率非均匀性对极小像差光学系统成像质量的影响,从而指导系统的进一步优化设计,提出一种三维仿真和光线追迹方法.该方法是在Zemax中通过自定义的程序,构建材料折射率均匀性的三维分布,设置光线追迹的步长,并控制整个光线追迹的过程,以提高仿真分析的精度.利用所提出的三维仿真和光线追迹方法,对一个数值孔径为0.7、工作波长为632.8 nm、波像差均方根(RMS)值为1.5 nm的小像差光学系统进行了仿真分析.结果表明,相比于传统的二维处理方法,提出的方法仿真精度有较大提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄玮	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	31	341	8.0	18.0
2	尚红波	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	9	21	2.0	4.0
3	杨添星	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	2	5	1.0	2.0
4	许伟才	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	13	55	5.0	7.0
5	赵菲菲	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	9	39	4.0	6.0