电场中不同能量密度激光烧蚀制备纳米硅晶粒分布特性

• 作者: 丁学成 张晓龙 梁伟华 王英龙 胡自强 褚立志 邓泽超
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光烧蚀 电场 朗缪尔探针 成核区
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 2091-2095
• 页数: 5页
• 分类号: TN244
• 字数: 3089字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132508.2091

摘要

在室温和10 Pa氩气环境中,引入平行于靶面方向的直流电场,通过改变脉冲激光能量密度烧蚀单晶硅靶,在与羽辉轴线呈不同角度的衬底上沉积纳米硅晶薄膜.利用扫描电子显微镜和拉曼散射谱对沉积样品进行分析,结果表明:随着激光能量密度的增加,位于相同角度衬底上的晶粒尺寸和面密度逐渐变大；在同一激光能量密度下,零度角处衬底上的晶粒尺寸和面密度最大,且靠近接地极板处的值比与之对称角度处略大.通过朗缪尔探针对不同能量密度下烧蚀羽辉中硅离子密度变化的诊断、结合成核区内晶粒成核生长动力学过程,对晶粒分布特性进行了分析.