垂直式炉管栅氧化工艺的精确控制

• 作者: 朱立平 李远哲 翟志刚 高文文
• 来源期刊: 才智
• 关键词: 栅氧化 工艺控制 垂直式炉管
• 年，卷（期）: 2013,（23）
• 所属期刊栏目: 科建园地 Cybertecture Field
• 页码范围: 256-256
• 页数: 1页
• 字数: 2169字
• 语种: 中文

摘要

随着半导体工艺的发展，器件的速度越来越快，栅氧化层的厚度也越来越薄，因此如何对该工艺进行精确控制成为了保证器件性能的关键。本文主要介绍了在垂直式炉管上如何对该工艺进行管控。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟志刚		2	0	0.0	0.0
2	朱立平		2	0	0.0	0.0
3	高文文		2	0	0.0	0.0
4	李远哲		1	0	0.0	0.0