作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
研究了弱反型时多晶硅薄膜晶体管表面势的分布.考虑到弱反型时,沟道势对表面势的影响可忽略,利用一维泊松方程,得到相应沿沟道方向任一点的表面势模型.通过将基于此模型的表面势二维分布与二维器件仿真结果进行比较,发现弱反型时,其可逼近二维器件中的表面势分布;并发现分别在相异栅电压,相异漏端电压和相异沟道长度时,弱反型时的表面势与其在沟道中所处的相对位置几乎无关.
推荐文章
耗尽区调制对氢化MILC Poly-Si TFT热产生漏电的影响
金属诱导横向结晶
多晶硅薄膜晶体管
热载流子应力
热产生漏电
耗尽区调制效应
Poly-Si TFT有源驱动OLED单元像素电路的参数设计
多晶硅
薄膜晶体管
有机电致发光
有源驱动
仿真模拟
玻璃衬底上MIUC Poly-Si TFT显示驱动电路
金属诱导单一方向横向晶化
多晶硅薄膜晶体管
显示驱动电路
全集成显示
上强下弱树势果树的修剪
果树
树势
修剪
生长缓慢
枝叶量
短截
疏枝
树干
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 Poly-Si TFT弱反型区表面势分布研究
来源期刊 山西大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 多晶硅薄膜晶体管 弱反型区 表面势 二维分布
年,卷(期) 2014,(1) 所属期刊栏目 物理学
研究方向 页码范围 86-90
页数 分类号 TN325
字数 语种 中文
DOI 10.13451/j.cnki.shanxi.univ(nat.sci.).2014.01.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱臻 苏州市职业大学电子信息工程学院 1 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (4)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1999(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2006(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2010(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2014(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
多晶硅薄膜晶体管
弱反型区
表面势
二维分布
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
山西大学学报(自然科学版)
季刊
0253-2395
14-1105/N
大16开
太原市坞城路92号
22-42
1960
chi
出版文献量(篇)
2646
总下载数(次)
7
总被引数(次)
12039
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导