TiAlCN涂层界面扩散机理与结合强度

• 作者: 付贵忠 孔德军 郭皓元
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlCN涂层 阴极弧离子镀 线扫描 面扫描 结合强度
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1260-1266
• 页数: 7页
• 分类号: TB43
• 字数: 3250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20142205.1260

摘要

利用阴极弧离子镀在Cr12MoV钢表面制备了TiAlCN涂层,通过扫描电镜(SEM)、能量分散光谱法(EDS)、X射线衍射术(XRD)等手段分析了TiAlCN涂层的表面-界面形貌、化学元素分布和物相特性,并对其界面结合机理进行了探讨.结果表明,Al原子第一电离能低于Ti原子,容易从靶材上气化电离出来沉积在基体上,使得涂层中Al元素含量较高;涂层中TiN、AlN和AlTiN为硬质相,其中涂层中高含量的Al原子有利于提高抗磨损性能,无定形C原子有利于降低摩擦系数;Ti、Al、C、N等原子在涂层中产生富集现象,在结合界面处发生扩散,是形成冶金结合的主要机制.另外,用划痕法测得涂层界面结合强度为76.9N,具有较高的抗剥落能力.文中的结果为TiAlCN涂层在冷作模具表面改性处理中的应用提供了实验基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔德军	常州大学机械工程学院	95	414	9.0	13.0
2	付贵忠	常州大学机械工程学院	20	105	6.0	8.0
3	郭皓元	常州大学机械工程学院	10	41	4.0	6.0