光降解对氮化硼-有机硅复合材料传热性能的影响

• 作者: 刘超 许并社 魏丽乔
• 来源期刊: 中国粉体技术
• 关键词: 氮化硼纳米颗粒 聚甲基硅氧烷 光降解 传热系数
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 粉体加工与处理
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TQ324.2+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-5548.2014.01.008

摘要

通过紫外辐照添加氮化硼纳米颗粒改性的有机硅复合材料,分析氮化硼颗粒对有机硅材料光降解老化性能的影响;采用扫描电镜、傅里叶红外光谱测试以及红外热成像仪等测试方法分析和表征紫外辐照和添加氮化硼颗粒后有机硅的性能变化.结果表明,聚甲基硅氧烷经紫外辐照后Si-C基团发生裂解,表面传热系数减小,散热性能变差;微量添加氮化硼颗粒会形成“海岛”模型,降低复合材料的散热性能,但是经紫外辐照后,复合材料的表面传热系数反而大幅增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许并社	太原理工大学材料科学与工程学院	335	3432	28.0	45.0
5	魏丽乔	太原理工大学材料科学与工程学院	55	493	13.0	19.0
9	刘超	太原理工大学材料科学与工程学院	19	78	5.0	8.0