一种在弱酸溶液中采用金属辅助湿法化学刻蚀黑硅的新方法

• 作者: 廖承菌 李学铭 杨培志
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 黑硅 弱酸溶液 广谱吸收
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 可再生能源研究
• 页码范围: 18-20
• 页数: 3页
• 分类号: O613.72
• 字数: 1124字
• 语种: 中文

摘要

为降低黑硅材料的成本，将太阳电池级单晶硅片浸入含有氯金酸(HAuCl4)的草酸/氢氟酸(H2 C2 O4/HF)混合水溶液中做刻蚀.利用扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见-近红外分光光度计对表面形貌和反射光谱进行了表征与测量.结果表明：样品表面具有网格状陷光结构，在350~2500 nm波段平均反射率约为11.3%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖承菌		8	20	2.0	4.0
3	杨培志		5	23	2.0	4.0
9	李学铭		8	14	2.0	3.0