巯基硅烷纳米薄膜修饰金电极测定痕量汞(Ⅱ)

• 作者: 刘建允 廖金金 张鑫 肖健林
• 来源期刊: 分析科学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 3-巯丙基三甲氧基硅烷 方波溶出伏安法 汞
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 35-38
• 分类号: O657.1
• 语种: 中文

摘要

采用3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为单一硅源合成有机硅纳米材料,将其组装到金电极表面,制备MPTS薄膜修饰电极.采用原子力显微镜和透射电镜表征有机硅纳米,粒径为3.3～5.7 nm;采用方波溶出伏安法测定该修饰电极对汞的响应信号.结果表明,该修饰电极对痕量汞有高灵敏响应.在0.1 mol/L HC1中,于-0.4V电位下富集10 min,溶出峰电流与其浓度在1.5×10-12～75.0×10-12 mol/L范围内呈线性关系,相关系数为0.9980,检出限为5.0×10-13 mol/L.该方法用于实际水样中汞的测定,与原子荧光光谱法进行比较,结果基本一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建允	东华大学环境科学与工程学院	18	65	5.0	7.0
2	肖健林	东华大学环境科学与工程学院	4	9	2.0	2.0
3	张鑫	东华大学环境科学与工程学院	5	45	2.0	5.0
4	廖金金	东华大学环境科学与工程学院	3	19	2.0	3.0